Федеральное государственное бюджетное учреждение науки
ИНСТИТУТ ФИЗИКИ ПОЛУПРОВОДНИКОВ ИМ. А.В. РЖАНОВА
Сибирского отделения Российской академии наук
НАУЧНЫЕ НАПРАВЛЕНИЯ
  • актуальные направления физики конденсированных сред, в том числе физика полупроводников и диэлектриков, физика низкоразмерных систем;
  • элементная база микроэлектроники, наноэлектроники, квантовых компьютеров, в том числе физико-химические основы технологий микроэлектроники, наноэлектроники, оптоэлектроники, акустоэлектроники, микросенсорики;
  • актуальные проблемы оптики, лазерной физики, включая квантовую электронику.
ПОЛУПРОВОДНИКОВЫЕ МАТЕРИАЛЫ
Объемные: Si, GaAs, InAs
Квантовые структуры: Si/Ge, GaAlAs/InAlAs/GaAs, GaN, AlN, InN, InP, CdTe/ZnTe, CdHgTe/CdTe/GaAs, SOI
Гетероструктуры, многослойные структуры: Ge/Si, AlAs/GaAs, GaAlAs/InAlAs/GaAs, GaN/GaAs, AlGaN/GaN
ДОБРО ПОЖАЛОВАТЬ
В 2014 году ФГБУН Институт физики полупроводников им. А.В.Ржанова СО РАН отмечает 50-летний юбилей. Институт был создан на сибирской земле в бурно развивающемся академгородке в 1964 году на основе объединения Института физики твердого тела и полупроводниковой электроники СО АН СССР и Института радиофизики и электроники СО АН СССР. За эти годы ИФП СО РАН превратился в многогранный исследовательский центр, совмещающий в себе глубокую академическую науку, направленную на фундаментальные научные открытия, практическую реализацию востребованных высокотехнологических инновационных разработок для современной экономики и подготовку высококвалифицированных научных исследователей и элитных инженерно-технических специалистов. Институт занимает ведущие позиции в области физики полупроводников, физики конденсированного состояния, физики и технологии низкоразмерных систем опто-, нано- и акусто- электроники, сенсорики, однофотоники, одноэлектроники, квантовой электроники, спинтроники. Основные фундаментальные достижения Института связаны с исследованием атомных процессов и электронных явлений на поверхности полупроводников и границах раздела полупроводниковых структур, квантовых эффектов в структурах пониженной размерности, в том числе, в эпитаксиальных сверхрешетках и гетероструктурах с квантовыми ямами. На основе полученных результатов реализованы приборные разработки матричных фотоприемников инфракрасного диапазона для устройств ночного видения и тепловидения, электронно-оптических преобразователей, СВЧ-транзисторов, одноэлектронных транзисторов и наносенсоров. Особые достижения Института связаны с разработкой оборудования и развитием технологии молекулярно-лучевой эпитаксии, которая стала основой современных нанотехнологий для полупроводниковой электроники. Юбилейные мероприятия, посвященные празднованию 50-летия Института, пройдут с 15 по 20 сентября 2014 г.

НОВОСТИ
23.10.14 17.10.14 16.10.14 14.10.14

Почётная грамота УГИБДД ГУМВД России по Новосибирской области ...

Во вторник, 21 октября, в 10-00 в конференц-зале ЛТК состоится семинар лаборатории № 10...

«Есть ли в современной физике какие-то задачи, которые были бы сравнимы с большими проблемами прошлого, или же остались лишь локальные? ...».

Д.Н. Придачин
Исследование адсорбционных слоев и начальных стадий формирования пленок AIIBVI на кремнии
(кандидатская диссертация)
Конференц-зал ЛТК, 15 октября 2014 г., среда 15-оо

.© ИФП СО РАН, 2006-2014. Web-master: Sambur Nadezhda