План работы оборудования Центра формируется на основе плана научной работы и поступивших заявок.

 

 Планируемая и текущая загрузка оборудования ЦКП на 2018 год в процентах

Оборудование

01

2018

02

2018

03

2018

 04

2018

05

2018

06

2018

07

2018

 08

2018

 09

2018

 10

2018

11

2018

 12

2018

1. ВРЭМ, Тitan 80-300 (FEI) 95  95 95 95  80  80 80 80 80 80 80 80
2. СЭМ эл.литография, Raith150 (Raith)  90  90 95 90  80 70 70 70 80  80 80  80
3. СЭМ, LEO-1430 (Zeiss) 85  90 90  90 90 80 80 80  80 80 80 80
4. ФИП, Cross Beam 1540XB (Zeiss) 90  85 90 95  90 80 80 80 80 80  80 80
5. АСМ, IntegraAura (НТ-МДТ)  90 95 95  95 90  90  90  90  80  80 80 80
6. Напыление, SunPla 600 ТЕМ (SunPlaEng)  90  90 90 90 90  80  70 70 70 70 70  70
7. ПХТ, Plasma Lab 90 90  90  80 80 80 70 70 70 70  70 70
8. Опт. м-п, Axio Imager z1m (Zeiss) 90 95  95 95 90 90 90 90 90 90 90 90
9. Микроинтерферометр, МНП-1  90 90 90  90 80 80 80 80 80 70 70 70
10. Пробоподготовка, PIPS (Gatan)  95  95 95 95 90 90  90 90 90  90 90  90
11. СТМ, VT-STM (OMICRON)  95 95 95 95 90 90  80  90  90 90 90 90
12. ПЭМ, JEM-4000EX (JEOL)  95 95 95 95 90 90  90  90 90  90  90  90
13. СВВ-ОЭМ - УНУ МАССК-ИФП 95 95  95  95  95 95  95 90 90 95 95  95
14. СВВ установка, Compact-21T (Riber) 95 95  95  95 95 95 95 90 90 90 90  90
15. СЭМ, SU8220 (Hitachi) 95 95 95 95 90 90 90  90  90  90 90  90
16. Опт. литография, ЭМ-5189-01  95 95 95 95 80  90  90  90 80  80 80 80
17. Лазерный комплекс, MultiMode8 (Bruker) 95 95 95  95  90 90 90 90 90  90 90 90
18. Ионно-лучевая обработка, IM150 (Oxford Applied Research) 80 80 80 80 70  70 70  70  70  70 70 70
19. Опт. м-п, BX53 (Olympus)  95 95 95 95 90 90  90  90 90 90 90 90